乳化罐清洗位置：將清洗物置于駐波壓力較大的位置，可獲得較佳的清洗效果。但是比駐波大的物體清洗時(shí)，易產(chǎn)生清洗不均，這時(shí)應(yīng)將物體在上下數(shù)十毫米內(nèi)加以搖動(dòng)，這是減少清洗不良的常用方法。由網(wǎng)孔引起的衰減：在清洗小型另件時(shí)，多使用網(wǎng)籃方式，網(wǎng)籃網(wǎng)孔的大小不當(dāng)，會(huì)造成超聲波衰減，使清洗力降低，例在28KHZ場(chǎng)合，網(wǎng)籃的網(wǎng)孔直徑需在5mm以上，才可正常清洗。

如小的螺釘清洗時(shí)，網(wǎng)孔較小要做到1mm，如果衰減大，使用0．1-0．5mm的薄板網(wǎng)藍(lán)，也可得到正常清洗效果。頻率：對(duì)于頻率因素涉及的清洗效果，大體可這樣認(rèn)為，乳化罐采用頻率低的針對(duì)較難清洗的污垢，頻率高的，適合于精密清洗場(chǎng)合。液體溫度：隨著液溫的上升，液中生存的氣泡會(huì)遮斷聲波，使超聲波減弱，但是在常規(guī)做法上都以提高液溫來(lái)增加清洗能力。

適合的液溫要針對(duì)不同的清洗液和清洗物來(lái)確定，一般場(chǎng)合液溫在5060℃比較適當(dāng)。清洗工序的設(shè)定要根據(jù)污染的類(lèi)型，污染程度，處理批量來(lái)決定，譬如，眼鏡片的清洗一般要10個(gè)工序。在使用水系清洗劑時(shí)，基本的工序制定如下：水系清洗劑→純水、自來(lái)水→脫水，干燥處理對(duì)清洗物的清洗性?xún)?yōu)劣非常重要，常見(jiàn)的干燥方法有熱風(fēng)干燥、通風(fēng)干燥、真空干燥、離心脫水干燥、IPA提升干燥等，可按照生產(chǎn)批量、成本、產(chǎn)品精度、被洗物形狀等加以選擇。工業(yè)用乳化罐多為單槽或雙槽式、自動(dòng)清洗形式的清洗機(jī)也有多槽形式。近年來(lái)，半導(dǎo)體行業(yè)用的清洗方式大多采用帶950KHZ 超聲槽的單枚式“US噴淋”高頻清洗，可得到高性能的清洗結(jié)果，“US噴淋”的方式是將載有950KHZ超聲波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、電路芯片的超精密清洗，塵粒子可接近“零”的程度。今后不同產(chǎn)品的濕式清洗，如需100％地發(fā)揮清洗劑的性能作用，對(duì)超聲清洗裝置將會(huì)提出更高的要求。